在规模化MEMS晶圆级加工制备中，，
，薄膜沉积作为组合工艺之一，，发挥着显著的作用。。。。薄膜沉积，，，，即在一定的晶圆尺度上，，，，对器件表面进行不同元素物质的沉积
，，，，以形成具备不同特点的光学膜系和电学器件结构
。
。。

       薄膜沉积对于器件设计性能的实现至关重要。
。
。。在一些微型传感器设计方案中，，，晶圆基底往往构建有微米级的微悬臂梁、
、
、微齿轮、
、
、、微通道等结构，，而在这些微小结构上需要均匀地沉积薄膜以实现特定功能（如通道表面的亲水或疏水镀膜）。。。。

       而对于具有复杂三维形貌的MEMS器件
，，，
，如加速度传感器中的质量块、、、支撑梁等高深宽比结构，，，良好的镀膜也能帮助实现器件更优性能。。在更广泛的光学
、、流量MEMS器件批量化制造中，，
，薄膜制备工艺需要实现同一晶圆的加工多个MEMS器件加工
，
，以确保同一批次、、、同一型号产品的性能一致性。。

       物理气相沉积，，
，主要通过真空环境下的物理方法（如蒸发、、
、溅射等）形成逸出靶材物质的气相粒子
，
，并在基底表面沉积并凝聚成薄膜，，气相粒子的运动和沉积行为受到真空度、、、粒子能量、、、、基底温度等多种因素的影响，
，，，通过控制这些因素则可以精确调控薄膜的生长和性能。。。。

       电子束蒸镀

       利用高能电子束轰击靶材，，，，将电子的动能转化为热能使靶材蒸发汽化
，
，在基底表面凝结成膜，，常用于沉积金
、、、铜等金属靶材，，，，在制造微电极时被广泛采用；其优点是操作相对方便、、、、可以实现较高的薄膜纯度，
，，但也容易出现薄膜附着力较弱、
、、薄膜成分和厚度均匀性不易调整的问题。
。。。

       磁控溅射

       利用电子在磁场作用下沿靶材表面所做的螺旋运动，，，，使高密度的等离子体轰击靶材，，靶材物质发生溅射状态后沉积于基底表面，，，，薄膜附着力强、
、纯度高、、
、、沉积速率快
，，，，可精确控制薄膜厚度，，，，但在工艺过程中可能会产生粒子散射，
，，影响薄膜均匀性，，，，适用于各种合金和化合物薄膜的制备。。。。

       原子层沉积是基于两种气态前驱体与基底表面的交替自限制化学反应，，属于化学气相沉积（CVD）的一种特殊类型
。。通过以交替脉冲的方式向反应腔室通入不同的气态前驱体，，
，以自限制的化学反应形成基底表面化学吸附分子层，，促成单原子或分子厚度的平稳逐层生长而后通过惰性气体吹扫去除未反应的前驱体和副产物。。
。

        该工艺能够实现原子级别的薄膜厚度，，
，，尤其是对于具有高深宽比的沟槽、、孔洞等复杂形貌的基底，，
，，沉积的薄膜具有高度的均匀性、、、致密性和纯度，，，，在半导体制造、、、纳米技术等领域有着重要的应用
，
，，例如在半导体器件中用于制备高介电常数栅介质薄膜等。。。

       而在需要高包裹性薄膜设计方案上
，，，
，原子层沉积所形成的薄膜厚度
、、
、形貌及结构可达到纳米尺度上高度可控，
，具有高致密性
、、、、高保形性、、、大面积均匀性等优异性能。。。
。

       光学传感

       通过在晶圆上沉积滤光膜、、钝化膜等，，来实现对不同波长光的检测和成像
，，，，如特种视觉相机的增透膜、、、反射膜、、滤光片等光学薄膜，，即是采用MEMS镀膜工艺制造的
，，可以实现物体表现瑕疵等超微的信息采集。。。。

       压力传感

       通过在硅晶圆上沉积氮化硅
、、、、氧化硅等薄膜作为绝缘层，，，再沉积金属薄膜作为电极和应变电阻
，，
，，利用薄膜的压阻效应来检测压力变化
，，，如汽车轮胎压力监测系统。。。
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       气体传感

       在晶圆上沉积氧化锌
、、、、二氧化钛等具有气敏特性的薄膜，，当接触到特定气体时
，，，，通过识别薄膜的电学性能变化实现气体检测，
，，可用于环境空气质量监测
、
、工业废气排放监测等领域。。。。

       温度传感

       如多晶硅、、铂、、、、金等金属、
、、、非金属薄膜材料，，，具有良好的温度系数和稳定性，
，在感知外界温度的变化时将产生电阻率变化，，，或产生膨胀、、
、收缩效应，，
，可用于制备温度传感元件，，，，满足不同领域的高精度、、、高灵敏度测温要求。。。。